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医药胶囊混悬液高剪切胶体磨   软胶囊制剂多用于非水溶性、对光敏感、遇湿热不稳定、易氧化额挥发的药物。它密封严密、生物利用度高，药物的稳定性也得到提升，此外还有掩盖不良嗅味的作用。实验证明，口服制剂的生物利用度，以内容物为溶液的软胶囊，混悬液次之，再次为含颗粒的硬胶囊，差为片剂。 近年来，超微粉碎技术逐渐应用到软胶囊领域，通过研究发现，药材经过超微化粉碎后，粉末粒径大小分布均匀，球性度和均质度明显改善，这些细粉较易混悬在水或者溶剂以及植物油当中，质量较为稳定。另外随着软胶囊行业的发展，对于胶囊的内容物的处理，出现的大量的设备，如：胶体磨、均质机、分散机等。这些设备通过对内容物的剪切，从内容物粒径更加细化，粉末分散更加均匀。而ikn应对这种情况，研发出了的设备，改良性胶体磨，该胶体磨结合了高剪切胶体磨和高剪切分散机的特点，将二者一体，形成的设备，我们也将它定义为“研磨分散机”   研磨分散机，对于软胶囊的生产有着巨大的优势，对于软胶囊内容物的处理十分有效，无论内容物是乳液还是混悬液，都可以将物料充分的细化，提高物料的稳定性和药效。改良型胶体磨的作用力体现在它的剪切力和作用刀头，IKN改良型胶体磨，研磨分散机，有一级胶体磨头和一级分散盘，对物料先研磨后分散机，再配合14000rpm的转速，乳液粒径一般可细化至1-2微米，混悬液一般可细化至3-5微米，当然这也要根据具体的物料性质和工艺来定。 XMD2000系列改良型胶体磨，研磨分散设备是希德公司经过研究刚刚研发出来的一款新型产品，该机特别适合于需要研磨分散乳化均质一步到位的物料。我们将三级高剪切均质乳化机进行改装，我们将三级变更为一级，然后在乳化头上面加配了胶体磨磨头，使物料可以先经过胶体磨细化物料，然后再经过乳化机将物料分散乳化均质。胶体磨可根据物料要求进行更换（我们提供了2P，2G，4M，6F，8SF等五种乳化头供客户选择）                XMD2000系列软胶囊内容物研磨分散机的特点： ①   线速度很高，剪切间隙非常小，当物料经过的时候，形成的摩擦力就比较剧烈，结果就是通常所说的湿磨 ②   定转子被制成圆椎形，具有精细度递升的三级锯齿突起和凹槽。 ③   定子可以无限制的被调整到所需要的与转子之间的距离 ④   在增强的流体湍流下，凹槽在每级都可以改变方向。