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芯片清洗二氧化碳清洗设备半导体清洗应用-上海干冰喷雾清洗设备半导体清洗应用

迪史洁（上海）清洗设备有限公司坐落在谢春路1300弄15号A区，交通方便。公司自成立以来，始终实行现代化管理，建立了一套完整的工作管理体系，包括严谨的质量控制体系、项目管理体系和售前售后服务体系。在清洗清理设备行业拥有扎实的技术基础，属于二氧化碳雪花设备。

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迪史洁技术用于许多行业，如汽车油漆预处理、硬盘驱动器CO2清洗、医疗设备制造CO2清洗、航空航天和电子元件CO2清洗制造。我们的应用干燥。绿色。干净。迪史洁专注于CO2技术创新，以改善制造工艺，用于广泛的应用。工艺通常比传统的替代方法更节能。

这些优点意味着干法工艺被越来越多的用于生产微元件的清洁应用中。一个应用是在使用激光直接结构化技术(激光直接结构化)制造中间体时去除烧蚀残留物。这个过程使得电路布局能够直接在复杂的三维载体结构上产生。

CO2雪花清洗的优势是:扩展的设计机会，相当低的组件尺寸和重量，以及更快的电子组件变更:这导致开发和系列生产成本显著降低。激光还能产生比传统工艺更的结构。热塑性材料中的一种特殊添加剂专用于制造CO2雪花清洗。激光束引发物理化学反应来这种添加剂。然后，在此过程中，它在聚合物基质中分解，并在随后的还原镀铜中充当催化剂。在激光结构化过程中，活性烧蚀残留物(也是金属化的，因此会引起问题)会留在表面上。这些残留物用二氧化碳雪花清洗。与传统的清洗相比，例如使用超声波或高压水射流，该过程同时平整粗糙的激光结构。其结果是简化了干冰雪花清洗的结构和内部连接系统，例如引线键合、与未封装芯片的配合以及倒装芯片技术。此外，清洁模块可以很容易地直接集成到激光结构化系统中。更多CO2雪花技术咨询，产品和服务将陆续发布。

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CO2雪花清洗焊后/回流清洗去除印刷电路板和芯片组件之间的焊剂。允许更清洁的下游组件，并改善成品的外观。

CO2雪花清洗优点:在紧密间隔的组件下进行出色的清洁，无水过程，使用助溶剂清洁极性和非极性土壤，并且对环境友好。

CO2雪花清洗对现有流程进行改造将清洁模块集成到现有的制造流程中，为装配问题区域提供的现场清洁。

CO2雪花清洗优点:在污染物产生的地方提供选择性清洁，因此不需要从过程中移除组件。节省时间，降低成本，并且不需要额外的自动化材料处理和夹具。

迪史洁干冰雪清洁技术是基于医疗雪花清洗、航空干冰雪清洗、CO2雪花半导体、牙科雪花清洗、原始设备制造、工业微电子雪花清洗、光纤、太阳能雪花清洗、珠宝和服装行业的精密清洗系统。

随着技术的进步，精密仪器的性能要求和复杂性也在增加。DSJet一直走在这条曲线的前列，不断提供进的干冰或雪清洁产品，这些产品对环境友好，不使用去离子水、化学物质和废物。

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我们的使命:将创新的CO2雪花技术应用于复杂的精密清洗、提取和冷却应用，以环保的方式提高生产率、质量和安全性。

迪史洁干冰雪花清洗是一种的颗粒去除技术，广泛应用于光学、硬盘、表面处理、电子等行业。这种有效清洁技术的关键特征包括能够去除大量颗粒物质而不凝结、不磨损、不残留、不接触。

少量液相迪史洁干冰雪花清洗被注射并与加热和压力调节的惰性推进气体混合，以形成具有可控喷雾组成和清洁能量的均匀清洁喷雾混合物。根据混合喷嘴组件的几何形状、喷雾混合比、推进剂压力和温度，输送到基底的清洁能量是完全可调的。固体迪史洁干冰雪花清洗颗粒以高速撞击基底，在表面污染物上产生高剪切应力。这一作用产生了化学活性固相，提供了颗粒物质、无机残留物和有机薄膜污染物的去除。在与污染物和表面接触后，固体一氧化碳2颗粒升华，没有留下清洁剂的痕迹。残留物通过一个集成的通风系统从清洁区清除。

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迪史洁干冰雪花清洗设备是集生产、贸易于一体的多种经营经济实体，技术成熟、设备齐全、实力雄厚。公司以效率高、信誉好伫立在清洗清理设备市场经济大潮中。公司办实事、求实效，创良好服务，树企业形象。生产销售的二氧化碳雪花设备品质优良，经久耐用，主要用于产品表面清洗。

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ITO薄膜具有高透射率、低电阻率的特性，在显示器件中常用作透明电极。ITO玻璃基板表面的清洁程度，直接影响到液晶显示器件生产的成品率；对于OLED器件，lTO薄膜表面状态的影响更大。其清洗方法及表面处理工艺都将影响到ITO薄膜的特性，如化学组成、ITO表面的功函数、ITO薄膜和有机层的接触特性等，进而影响OLED的性能。因此ITO玻璃基板的清洗，要求能除去微米量级的粒子和所有的有机、无机化学物质及污迹、水迹等污染物，并要求清洗后的ITO薄膜具有良好的亲和性。

目前经常用于ITO玻璃表面处理的方法有：化学方法(酸或碱处理)和物理方法(机械抛光、热处理、氧等离子体处理、氧辉光放电及臭氧环境紫外线处理等)。本文采用的是干冰颗粒喷射清洗技术。1986年提出将此方法用于表面清洁。之后W.Gerristead等人对2英寸单晶硅基片进行干冰颗粒喷射清洗，清洗前后硅片上的杂质颗粒由538000／cm2减少到342／cm2，减少程度达99.9％；经x光电子能谱(XPS)测量，清洗前后的基片表面上碳氢化台物的含量降低了25％～30％。此外，干冰颗粒喷射清洗法用于金属、陶瓷、光学器件、聚合体表面、CMOS图像传感器也取得了很好的清洗效果

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CO2雪花清洗系统从金属、陶瓷、聚合物和玻璃中去除污染物

CO2雪花清洗系统硅、磷化铟和晶片上颗粒和污渍去除

CO2雪花清洗系统清洁光学器件，即镀膜透镜、激光、红外和紫外光学器件

CO2雪花清洗系统表面分析(俄歇、XPS、SIMS)和原子力显微镜前的样品制备

CO2雪花清洗系统清洁真空系统部件、波纹管、电子和离子光学器件

迪史洁干冰雪清洁技术是基于医疗雪花清洗、航空干冰雪清洗、CO2雪花半导体、牙科雪花清洗、原始设备制造、工业微电子雪花清洗、光纤、太阳能雪花清洗、珠宝和服装行业的精密清洗系统。

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历经多年的潜心耕耘，迪史洁干冰雪花清洗设备高度洞察市场，把握流行趋势，始终保持着国内同行业中企业的牢固地位。供应的二氧化碳雪花设备质量可靠，质优价廉，是一款优等品产品，也是迪史洁干冰雪花清洗设备主营产品之一。产品主要通过;厂家的方式进行销售，主要销往全国。公司运用高能的信息管理系统，以优异的产品、的服务为客户提供具有价值的供应平台。

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