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苏州干冰雪花颗粒清洗设备绿色环保-电子产品雪花清洗设备

迪史洁干冰雪花清洗设备是集生产、贸易于一体的多种经营经济实体，技术成熟、设备齐全、实力雄厚。公司以效率高、信誉好伫立在清洗清理设备市场经济大潮中。公司办实事、求实效，创良好服务，树企业形象。生产销售的二氧化碳雪花设备品质优良，经久耐用，主要用于产品表面清洗。

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迪史洁干冰雪喷射清洗在传统的光刻微芯片生产中也得到了证明。在芯片有限公司，它被用于生产各种应用的磁阻传感器。公司成立了公司2雪喷射技术在制造用于磁共振传感器的三维微芯片中作为传统湿化学清洗的有效且环保的替代物。这些通常需要用超纯介质进行昂贵的冲洗过程。二氧化碳干冰技术去除了金属化后在导电路径边缘形成的所谓栅栏。然后可以将下一个结构应用到硅晶片上。

CO2雪花清洗系统因为即使是小的流体介质残留物也会影响微电子元件的功能或保护涂层的粘附性，所以这些也需要可靠地去除。哥伦比亚2雪为清洁和提高保护涂层的附着力提供了一种经济、无残留的解决方案。同时，该工艺还能够选择性地处理特定部分，如粘合和接触区域。

迪史洁干冰雪喷射清洗在传统该工艺还为射频识别应用的微芯片封装提供了解决方案。组装前，半导体由夹具放在一个特殊的料盒中。在此过程中，机器人会产生足够的气流，这可能会导致将极轻的芯片从包装中取出。为了防止这种情况，芯片被从封装后部施加的真空压住。为此，钻一个小孔，并清除钻孔产生的残留物。哥伦比亚2雪喷射清洁擅长于这一特殊过程。

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ITO薄膜具有高透射率、低电阻率的特性，在显示器件中常用作透明电极。ITO玻璃基板表面的清洁程度，直接影响到液晶显示器件生产的成品率；对于OLED器件，lTO薄膜表面状态的影响更大。其清洗方法及表面处理工艺都将影响到ITO薄膜的特性，如化学组成、ITO表面的功函数、ITO薄膜和有机层的接触特性等，进而影响OLED的性能。因此ITO玻璃基板的清洗，要求能除去微米量级的粒子和所有的有机、无机化学物质及污迹、水迹等污染物，并要求清洗后的ITO薄膜具有良好的亲和性。

目前经常用于ITO玻璃表面处理的方法有：化学方法(酸或碱处理)和物理方法(机械抛光、热处理、氧等离子体处理、氧辉光放电及臭氧环境紫外线处理等)。本文采用的是干冰颗粒喷射清洗技术。1986年提出将此方法用于表面清洁。之后W.Gerristead等人对2英寸单晶硅基片进行干冰颗粒喷射清洗，清洗前后硅片上的杂质颗粒由538000／cm2减少到342／cm2，减少程度达99.9％；经x光电子能谱(XPS)测量，清洗前后的基片表面上碳氢化台物的含量降低了25％～30％。此外，干冰颗粒喷射清洗法用于金属、陶瓷、光学器件、聚合体表面、CMOS图像传感器也取得了很好的清洗效果

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清洁——即使在脆弱的口腔中

CO2扫雪喷射系统的高清洁性能与相对较低的二氧化碳消耗相结合，这是由于总部位于埃斯林根的公司设计并获得专利的超音速双组分清洁头。液态二氧化碳在离开喷嘴时膨胀，形成雪和气体的混合物，形成核心射流。然后，压缩空气作为夹套射流被加入，以将微小的、非研磨性的雪晶体加速到超音速。同时，清洁头的紧凑设计了不可燃的CO2雪喷流也能够可靠地清洁非常脆弱的部件空腔和底切，例如在挡泥板、后面板和侧板以及扰流板中发现的那些。在此过程中，通过结合使用机械、化学和热特性，可以去除颗粒和薄膜污染物，而不会留下任何残留物。用于清洁系统的二氧化碳来源于制造肥料的过程，因此是环境中性的。

对于连续操作，CO2清洗系统设计用于清洗由各种不同塑料制成的各种形状和尺寸的部件。通过进行颗粒测量、光学比较和分析以检测表面残留物，以及通过进行技术测试以评估油漆附着力和光学外观，证明了这一点

迪史洁干冰雪花清洗已在航空航天、汽车电子、医疗和其他行业得到应用。当使用迪史洁干冰雪花时，你会想把安全措施放在适当的位置。

迪史洁干冰雪花清洗去除的一些污染物包括制造残留物、灰尘、指纹、脱模剂、水印和其他轻质油，所有这些都会影响油漆质量。

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雪和压缩空气的喷射温度为零下78.5摄氏度，可以聚焦在需要的地方。当它撞击要清洁的表面时，会发生热、机械、升华和溶剂效应的组合。这四种清洁机制使雪花清洗系统能够清除薄膜污染物，如冷却润滑剂、加工油、抛光膏、分离剂和硅的残留物，以及微粒污染物，如碎片、灰尘和磨损。由于清洁步骤使用不可燃、无腐蚀性和的雪花清洗雪对材料也很温和，即使是精细结构的表面也可以处理。

雪晶有效的主要原因是a雪花清洗清洁头，它配备了一个超音速双组分环形喷嘴。液态二氧化碳在离开喷嘴时膨胀，形成雪和气体的混合物，形成核心射流。压缩空气也作为夹套射流被送入喷嘴，这加速了一氧化碳2雪晶达到超音速。压缩空气的加速比单组分喷嘴系统的清洁效率高得多，也大大降低了二氧化碳的消耗。

二氧化碳雪清洗可以去除玻璃上的污渍。这包括溶剂污渍，水渍，甚至夏普标记。该程序依赖于冷冻断裂模式，并不总是快速的。在清洁之前和清洁过程中，输入适当的热量，因为玻璃会立即冻结。下面是一张硅晶片的图片，上面有沙皮的脸，经过二氧化碳雪清洗后，只有两张。溶剂渍更容易，水斑不一致。

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公司自2006-07-05成立以来，勇于探索，力争上游。凭借其优异的二氧化碳雪花设备和系统的售后服务，在行业中取得了良好的信誉。本公司倡导上下一心，真诚合作，开拓创新的企业精神，坚持质量至上的产品宗旨，赢得了广大芯片行业的大力支持和信赖。真诚欢迎各界朋友莅临迪史洁（上海）清洗设备有限公司参观、指导和业务洽谈。

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