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上海干冰雪花颗粒清洗设备半导体清洗应用-苏州二氧化碳清洗设备

迪史洁（上海）清洗设备有限公司成立于2006-07-05，是一家以个体经营。追求品质可靠，尽显企业精华。采用成熟的管理模式，坚持“以人为本,以诚经营,以质保障”的经营理念，主要负责二氧化碳雪花设备及其它周边产品的经营销售，满足芯片行业的多样化需求。

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ITO薄膜具有高透射率、低电阻率的特性，在显示器件中常用作透明电极。ITO玻璃基板表面的清洁程度，直接影响到液晶显示器件生产的成品率；对于OLED器件，lTO薄膜表面状态的影响更大。其清洗方法及表面处理工艺都将影响到ITO薄膜的特性，如化学组成、ITO表面的功函数、ITO薄膜和有机层的接触特性等，进而影响OLED的性能。因此ITO玻璃基板的清洗，要求能除去微米量级的粒子和所有的有机、无机化学物质及污迹、水迹等污染物，并要求清洗后的ITO薄膜具有良好的亲和性。

目前经常用于ITO玻璃表面处理的方法有：化学方法(酸或碱处理)和物理方法(机械抛光、热处理、氧等离子体处理、氧辉光放电及臭氧环境紫外线处理等)。本文采用的是干冰颗粒喷射清洗技术。1986年提出将此方法用于表面清洁。之后W.Gerristead等人对2英寸单晶硅基片进行干冰颗粒喷射清洗，清洗前后硅片上的杂质颗粒由538000／cm2减少到342／cm2，减少程度达99.9％；经x光电子能谱(XPS)测量，清洗前后的基片表面上碳氢化台物的含量降低了25％～30％。此外，干冰颗粒喷射清洗法用于金属、陶瓷、光学器件、聚合体表面、CMOS图像传感器也取得了很好的清洗效果

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“优异的产品、成熟的技术、尽善尽美的服务”是迪史洁干冰雪花清洗设备所有职员的追求目标，作为可靠从事二氧化碳雪花设备的供应商，长期为芯片行业提供成熟技术和良好服务，倡导绿色环保节能，高能和谐发展。公司不断的整合企业资源，以可靠、节能、环保的二氧化碳雪花设备满足芯片行业各方位的需求。

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迪史洁干冰雪喷射清洗在传统的光刻微芯片生产中也得到了证明。在芯片有限公司，它被用于生产各种应用的磁阻传感器。公司成立了公司2雪喷射技术在制造用于磁共振传感器的三维微芯片中作为传统湿化学清洗的有效且环保的替代物。这些通常需要用超纯介质进行昂贵的冲洗过程。二氧化碳干冰技术去除了金属化后在导电路径边缘形成的所谓栅栏。然后可以将下一个结构应用到硅晶片上。

CO2雪花清洗系统因为即使是小的流体介质残留物也会影响微电子元件的功能或保护涂层的粘附性，所以这些也需要可靠地去除。哥伦比亚2雪为清洁和提高保护涂层的附着力提供了一种经济、无残留的解决方案。同时，该工艺还能够选择性地处理特定部分，如粘合和接触区域。

迪史洁干冰雪喷射清洗在传统该工艺还为射频识别应用的微芯片封装提供了解决方案。组装前，半导体由夹具放在一个特殊的料盒中。在此过程中，机器人会产生足够的气流，这可能会导致将极轻的芯片从包装中取出。为了防止这种情况，芯片被从封装后部施加的真空压住。为此，钻一个小孔，并清除钻孔产生的残留物。哥伦比亚2雪喷射清洁擅长于这一特殊过程。

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CO2雪花清洗系统当这些动作在几分之一秒内发生时，可以非常快速地清洗和去毛刺衬底，同时仍然产生可再现的结果。在清洁过程中，二氧化碳完全转化为气体，基材立即干燥，因此无需进行常规湿化学工艺所需的高能耗干燥过程。CO2雪喷技术还消除了与非常窄的工艺窗口相关的风险，例如在传统工艺中出现的那些，例如电抛光:如果处理时间太短，则不能可靠地去除微小毛刺。如果插管放在浴缸里太久，顶端会变钝。该方法的其他优点包括不需要化学物质，不产生废水，也没有需要处理的溶剂。

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液态二氧化碳被引导通过CO2雪花清洗系统的无磨损双组分环形喷嘴，并在排出时膨胀形成细小的二氧化碳水晶。然后，它们被压缩空气的环形夹套射流捆绑在一起，加速到超音速。这项专利技术了均匀的清洁效果，即使在使用多个喷嘴的大表面上也是如此。

雪和压缩空气的喷射温度为零下78.5摄氏度，可以聚焦在需要的地方。当它撞击要清洁的表面时，会发生热、机械、升华和溶剂效应的组合。这四种清洁机制使CO2雪花清洗系统能够清除薄膜污染物，如冷却润滑剂、加工油、抛光膏、分离剂和硅的残留物，以及微粒污染物，如碎片、灰尘和磨损。由于清洁步骤使用不可燃、无腐蚀性和的一氧化碳2雪对材料也很温和，即使是精细结构的表面也可以处理。

服务是单向的，沟通是双向的，切实满足客户先在的和潜在的需求，提倡给客户更多的感动。迪史洁（上海）清洗设备有限公司重合同，守信用，维护企业好名誉。衷心期望着与各位朋友互信互助、共同发展。良好的销售是打开市场的金钥匙。我司努力开拓市场，扩大销售范围，进一步向客户提供更优异的二氧化碳雪花设备和服务。欢迎来电，愿与广大新老客户携手共创美好的明天。

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