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镀膜机厂家，精密光学镀膜设备供应商， 肇庆市高要区恒誉真空技术有限公司自2012-07-23成立以来，专注于为中小企业提供好的精密光学镀膜设备。公司及时跟进潮流动态，立足新起点，开创新局面。拥有成熟的生产加工设备以及可靠的包装生产流水线，新产品开发周期短、能力强，精度高，制造工艺成熟。欢迎广大中小企业前来合作。

优异的服务是客户的需求，而满足客户的需求是我们不变的宗旨。恒誉真空为了客户能够更快的接收到产品，我们出售的精密光学镀膜设备提供使用陆运;公路运输的方式来运送。创新是根本，质量是生命，务实是宗旨，效益是目标。我司坚持创新经营模式，勇于创新勇于尝试；坚持产品质量的追求，不懈进取，努力为客户提供质量过人的产品；我司坚持在务实诚信的基础上，努力实现企业效益的增长。

恒誉真空建立高起点、高目标、高质量、率、有效益的“五高”标准，锻造出质量良好的产品，获得广阔的销售市场。供应的精密光学镀膜设备主要用于镜片，镜头，饰品等表面镀膜，在广东区域范围内受到广大中小企业的青睐。公司凭借良好的信誉，雄厚的实力，好的产品，低廉的价格服务于广大用户。

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平衡态磁控阴极内外磁钢的磁通量大致相等，两极磁力线闭合于靶面，很好地将电子/等离子体约束在靶面附近，增加碰撞几率，提高了离化效率，因而在较低的工作气压和电压下就能起辉并维持辉光放电，靶材利用率相对较高，但由于电子沿磁力线运动主要闭合于靶面，基片区域所受离子轰击较小.非平衡磁控溅射技术概念，即让磁控阴极外磁极磁通大于内磁极，两极磁力线在靶面不完全闭合，部分磁力线可沿靶的边缘延伸到基片区域，从而部分电子可以沿着磁力线扩展到基片，增加基片区域的等离子体密度和气体电离率.不管平衡非平衡，若磁铁静止，其磁场特性决定一般靶材利用率小于30%。为增大靶材利用率，可采用旋转磁场。但旋转磁场需要旋转机构，同时溅射速率要减小。

旋转磁场多用于大型或贵重靶。如半导体膜溅射。对于小型设备和一般工业设备，多用磁场静止靶源。用磁控靶源溅射金属和合金很容易，点火和溅射很方便。这是因为靶（阴极），等离子体，和被溅零件/真空腔体可形成回路。但若溅射绝缘体如陶瓷则回路断了。于是人们采用高频电源，回路中加入很强的电容。这样在绝缘回路中靶材成了一个电容。但高频磁控溅射电源昂贵，溅射速率很小，同时接地技术很复杂，因而难大规模采用。为解决此问题，发明了磁控反应溅射。就是用金属靶，加入氩气和反应气体如氮气或氧气。当金属靶材撞向零件时由于能量转化，与反应气体化合生成氮化物或氧化物。磁控反应溅射绝缘体看似容易，而实际操作困难。

主要问题是反应不光发生在零件表面，也发生在阳极，真空腔体表面，以及靶源表面。从而引起灭火，靶源和工件表面起弧等。德国莱宝发明的孪生靶源技术，很好的解决了这个问题。其原理是一对靶源互相为阴阳极，从而消除阳极表面氧化或氮化。冷却是源（磁控，多弧，离子）所必需，因为能量很大一部分转为热量，若无冷却或冷却不足，这种热量将使靶源温度达一千度以上从而溶化整个靶源。

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