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东莞多槽超声波清洗机-榆林多槽超声波清洗设备

厦门闽超机械是一家具有实力的多槽超声波清洗机生产企业，一直把满足客户要求作为企业经营的核心，严把质量关口，努力提率是我们的目标。我司坚持不懈，努力为工业生产企业提供适应市场需求的多槽超声波清洗机。“创新产品种类，严格质量控制”，公司遵循着这样的原则，持续为客户提供有口碑的多槽超声波清洗机。

东莞多槽超声波清洗机-榆林多槽超声波清洗设备。 厦门闽超机械设备有限公司是主要对多槽超声波清洗机进行开发、生产、销售的企业，生产技术力量雄厚、制造工艺水平成熟，质量监督体系。自公司2008-07-08以来，已在清洗清理设备领域占据主要地位，用户反馈良好。持续创新是企业生存和发展的源泉和动力，我司会再接再厉，生产更适合用户需求、适应市场发展的产品。

多槽式超声波清洗机采用市水、纯水、碱性或弱酸性，水基溶剂作清洗剂，多与喷淋、喷流、热浸、鼓泡等清洗方式组合，配以合适的产品干燥方式，组成半自动超声波清洗生产线。特别适用于小批量的电子线路板、电子零件、钟表零件、五金冲压零件、金属机加件、珠宝首饰、眼镜架、玻璃器皿、半导体硅片等的清洗。具有工艺新颖，针对性强，结构简洁，使用方便等特点，且设备造价低，投资少，又能满足不同产品的特殊清洗要求。

超声波：

超声波是一种振动频率高于声波的机械波，由换能晶片在电压的激励下发生振动产生的，它具有频率高、波长短、绕射现象小，特别是方向性好、能够成为射线而定向传播等特点。超声波对液体、固体的穿透本领很大，尤其是在阳光不透明的固体中，它可穿透几十米的深度。超声波碰到杂质或分界面会产生显著反射形成反射成回波，碰到活动物体能产生多普勒效应。因此超声波检测广泛应用在工业、国防、生物医学等方面。

多槽超声波清洗机工作原理：

一方面破坏污物与清洗件表面的吸附，另一方面能引起污物层的疲劳破坏而被驳离，气体型气泡的振动对固体表面进行擦洗，污层一旦有缝可钻，气泡立即“钻入”振动使污层脱落，由于空化作用，两种液体在界面迅速分散而乳化，当固体粒子被油污裹着而粘附在清洗件表面时，油被乳化、固体粒子自行脱落，超声在清洗液中传播时会产生正负交变的声压，形成射流，冲击清洗件，同时由于非线性效应会产生声流和微声流，而超声空化在固体和液体界面会产生高速的微射流，所有这些作用，能够破坏污物，除去或削弱边界污层，增加搅拌、扩散作用，加速可溶性污物的溶解，强化化学清洗剂的清洗作用。由此可见，凡是液体能浸到且声场存在的地方都有清洗作用，其特点适用于表面形状非常复杂的零件的清洗。尤其是采用这一技术后，可减少化学溶剂的用量，从而大大降低环境污染。

东莞多槽超声波清洗机-榆林多槽超声波清洗设备。

超声波清洗设备是一种工业机器设备，采用超声波清洗的原理，用于机器清洗。

超声波清洗设备可以达到物件全(quan)面洁净的清洗效果，特别对深孔，盲孔，凹凸槽清洗是理想的设备，不影响任何物件的材质及精度。同时在生化，物理，化学，医学，科研及大专院校的实验中可作提取，脱气，混匀，细胞粉碎，纳米分解之用。

超声清洗技术的机理研究及设备开发与超声清洗工艺研究及应用在我国已有近50年的历史,几乎与国外同步进行的。80年代前我国超声清洗研制单位无论从研制队伍和生产有规模的单位为数不多,80年代后特别90年代开始随着改革开放的深入和国民经济的飞速发展以及科技的不断进步，尤其制造技术的需求，超声清洗技术的研究与超声清洗设备的研制得到了迅速发展，研制队伍不断壮大，研制单位不断增多。

超声清洗是属于物理力清洗，其本身为绿色清洗，若在清洗液中添加适宜的清洗剂则属组合清洗，更具明显的清洗效果。超声清洗是功率超声中应用广泛的一种，超声清洗与现代科技发展及先(xian)进制造工艺密切相关。超声清洗在各种化学、物理以及机械的清洗中是较为有效的一种，它被广泛应用于机械、光学、电子、轻工、纺织、化工、航空航天、船舶、原子能以及医疗医药等工业部门。

超声波清洗设备工作原理：

超声波清洗设备是利用超声波在液体中的社会化作用、加速度作用及直进流作用对液体和污物直接、超声波清洗间接的作用，使污物层被分散、乳化、剥离而达到清洗目的。超声波清洗所用的超声波清洗机中，空化作用和直进流作用应用得更多。

超声波清洗设备技术特点：

超声波清洗与其它清洗相比具有洗净率高、残留物少,清洗时间短,清洗效果好， 凡是能被液体浸到的被清洗件，超声对它都有清洗作用。不受清洗件表面形状限止，例深孔、狭缝、凹槽。都能得到清洗。由于超声波发生器采用D类工作放大,换能器的电声效率高，因此超声清洗具有效率高节能。它是一种真正高速、高质量、能易实现自动化的清洗技术。若清洗剂采用非ODS清洗剂则具有绿色环保清洗作用。超声清洗对玻璃、金属等反射强的物体其清洗效果好，而不适宜纺织品、多孔泡沫塑料、橡胶制品等声吸收强的材料。

超声波清洗与各种化学的、物理的、电化的和超声波清洗物化的清洗方法比较，具有以下的优点：

·能快速、彻地清除工件表面上的各种污垢。

·能清洗带有空腔、沟槽等形状复杂的精密零件。

·对工件表面无损。

·可采用各种清洗剂。

·在室温或适当加温（60℃左右）即可进行清洗。

·整机一体化结构便于移动。

·节省溶剂、清洁纸、能源、工作场地和人工等。

超声波清洗设备应用：

超声波在电子行业的应用

电子行业是超声波清洗应用较早，且普及的行业。

电子零件的清洗：电子零件，如半导体管的壳座、IC的壳座、晶体的壳座、继电器的壳座、电子管座等。

电子元器件的基体清洗：电子元器件的基体是由半导体材料制成并封装在金属或塑料壳座中形成的，在封装前，不但须对壳座进行清洗，而且也须对基体进行清洗，如IC芯片、电阻、晶体、半导体、原膜电路等。

PCB板的清洗：我国电子行业中，绝大多数企业都在使用PCB，PCB组件焊接采用的助焊剂分为水溶型、松香型和免清洗型三类，使用较多的为前两种，多采用超声波清洗机，免清洗型原则上应该不清洗，但是，世界各国的大多数厂家即使采用免清洗型焊剂焊接组件，仍需要清洗。

超声波清洗设备注意事项：

(1)超声波清洗设备电源及电热器电源须有良好接地装置。

(2)超声波清洗设备严禁无清洗液开机，即清洗缸没有加数量的清洗液，不得合超声波开关。

(3)有加热设备的清洗设备严禁无液时打开加热开关。

(4)禁止用重物(铁件)撞击清洗缸缸底，以免能量转换器晶片受损。

(5)超声波发生器电源应单独使用一路220V/50Hz电源并配装2000W以上稳压器。

(6)清洗缸缸底要定期冲洗，不得有过多的杂物或污垢。

(7)每次换新液时，待超声波起动后，方可洗件

超声波清洗设备工作流程：

超声波清洗是利用超声波在液体中的空化作用、加速度作用及直进流作用对液体和污物直接、间接的作用，使污物层被分散、乳化、剥离而达到清洗目的。所用的超声波清洗机中，空化作用和直进流作用应用得更多。

空化作用

空化作用就是超声波以每秒两万次以上的压缩力和减压力交互性的高频变换方式向液体进行透射。在减压力作用时，液体中产生真空核群泡的现象，在压缩力作用时，真空核群泡受压力压碎时产生强大的冲击力，由此剥离被清洗物表面的污垢，从而达到精密洗净目的。

在超声波清洗过程中，肉眼能看见的泡并不是真空核群泡，而是空气气泡，它对空化作用产生抑制作用降低清洗效率。只有液体中的空气气泡被完全脱走，空化作用的真空核群泡才能达到好效果。

直进流作用

超声波在液体中沿声的传播方向产生流动的现象称为直进流。声波强度在0.5W/cm2时，肉眼能看到直进流，垂直于振动面产生流动，流速约为10cm/s。通过此直进流使被清洗物表面的微油污垢被搅拌，污垢表面的清洗液也产生对流，溶解污物的溶解液与新液混合，使溶解速度加快，对污物的搬运起着很大的作用。

加速度

液体粒子推动产生的加速度。对于频率较高的超声波清洗机，空化作用就很不显著了，这时的清洗主要靠液体粒子超声作用下的加速度撞击粒子对污物进行超精密清洗。

超声波清洗设备分类：

1、通用超声波清洗机

超声波清洗机的结构一般有超声波电源和清洗机合为一体或分开布局两种形式，一般小功率（200W以下）清洗机用

一体式结构，而大功率清洗机采用分体式结构。

超声波清洗机分体式结构由三个主要部分组成（1）清洗缸；（2）超声波发生器；（3）超声波换能器。

超声波清洗机用的超声波发生器，有以下特点：

（1）随着清洗液深度不同，换能器共振频率和阻抗变化很大。但是实践表明，槽内放进适量清洗物后，基本上就

可以稳定在某数值上。

（2）一般来说，由于清洗负载变动较小，可以不要求复杂的频率自动跟踪电路。

（3）实用超声波发生器，大多数采用大功率自激式反馈振荡器。

2、专用超声波清洗机

一般安装在某些特定物件清洗的生产流水线上。

典型的软磁器件超声

波清洗设备介绍：被清洗物件从进料口可传动的不锈钢专用网带送人超声波清洗槽清洗，再

经喷淋、烘干等工序后出料，实现被清洗物件可直接包装入库。

各工序简要说明如下：

①进料：物件进料可采用半自动进料

②压电式换能器：国内外大多数超声波清洗机用的是压电式换能器，勘L形结构。这种换能器一般有两片压电陶瓷晶片组成。一台清洗机用多个换能器，经粘接剂粘接在清洗缸底部且经并联连接组成一台清洗机的换能器。换能器基元之间距（对于频率20kH4一般在5-10mm为佳），太大了容易产生弯曲振动，且振动板受到腐蚀，同时辐射面相对减少。

通用超声清洗机清洗零件适用性强，已广泛应用于电子、钟表、光学、机械、汽车、航空、原子能工业、医疗器械等许多行业。专用超声波清洗机一般安装在某些特定物件清洗的生产流水线上。典型的软磁器件超声波清洗设备，再经喷淋、烘干等工序后出料，实现被清洗物件可直接包装入库。

还有一种超声汽相清洗机，它是选用有机溶剂作清洗液，具有强的溶解污垢的能力，用于清洗半导体晶片等净治度要求特别高的物件。

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